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POSITIV 20

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Hersteller:	Kontakt Chemie
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RoHS konform:	Ja
Bestellnummer:	CH-POSITIV 20
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Artikelbeschreibung

Fotopositiv-Resist zur Herstellung lichtempfindlicher Beschichtungen. Damit können transparente Vorlagen direkt auf Werkstoffe kopiert werden. Die max. Lichtempfindlichkeit liegt bei 340 - 420 nm. Typische Anwendungen sind die Herstellung von Leiterplatten oder fotolithografische Arbeiten.

Bitte beachten Sie die Verarbeitungshinweise im Datenblatt.

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